Tin tức

Tin tức trong ngành

Thiết kế trường nhiệt cho sự phát triển tinh thể đơn SIC06 2024-08

Thiết kế trường nhiệt cho sự phát triển tinh thể đơn SIC

Với nhu cầu ngày càng tăng đối với các vật liệu SIC trong Điện tử năng lượng, Optoelectronics và các lĩnh vực khác, sự phát triển của công nghệ tăng trưởng tinh thể SIC sẽ trở thành một lĩnh vực quan trọng của đổi mới khoa học và công nghệ. Là cốt lõi của thiết bị tăng trưởng tinh thể đơn SIC, thiết kế trường nhiệt sẽ tiếp tục nhận được sự chú ý sâu rộng và nghiên cứu chuyên sâu.
Lịch sử phát triển của 3C SiC29 2024-07

Lịch sử phát triển của 3C SiC

Thông qua tiến bộ công nghệ liên tục và nghiên cứu cơ chế chuyên sâu, công nghệ dị vòng 3C-SiC dự kiến ​​sẽ đóng vai trò quan trọng hơn trong ngành bán dẫn và thúc đẩy sự phát triển của các thiết bị điện tử hiệu suất cao.
Công thức lắng đọng lớp nguyên tử ALD27 2024-07

Công thức lắng đọng lớp nguyên tử ALD

ALD không gian, lắng đọng lớp nguyên tử bị cô lập trong không gian. Tấm wafer di chuyển giữa các vị trí khác nhau và tiếp xúc với các tiền chất khác nhau ở mỗi vị trí. Hình dưới đây là sự so sánh giữa ALD truyền thống và ALD bị cô lập về mặt không gian.
X
Chúng tôi sử dụng cookie để cung cấp cho bạn trải nghiệm duyệt web tốt hơn, phân tích lưu lượng truy cập trang web và cá nhân hóa nội dung. Bằng cách sử dụng trang web này, bạn đồng ý với việc chúng tôi sử dụng cookie.Chính sách bảo mật
Từ chốiChấp nhận