Tin tức

Tin tức

Chúng tôi rất vui được chia sẻ với bạn về kết quả công việc của chúng tôi, tin tức của công ty và cung cấp cho bạn những diễn biến kịp thời cũng như các điều kiện bổ nhiệm và sa thải nhân sự.
Chào mừng khách hàng đến thăm Lớp phủ SIC/ TAC Lớp phủ SIC của Veteksemon05 2024-09

Chào mừng khách hàng đến thăm Lớp phủ SIC/ TAC Lớp phủ SIC của Veteksemon

Vào ngày 5 tháng 9, các khách hàng của Vetek Semiconor đã đến thăm các nhà máy phủ SIC Lớp phủ và TAC Lớp phủ và đạt được các thỏa thuận hơn nữa về các giải pháp xử lý epiticular mới nhất.
Chào mừng Quý khách hàng đến tham quan Nhà máy Sản phẩm Sợi Carbon của Veteksemian10 2025-09

Chào mừng Quý khách hàng đến tham quan Nhà máy Sản phẩm Sợi Carbon của Veteksemian

Vào ngày 5 tháng 9 năm 2025, một khách hàng từ Ba Lan đã đến thăm một nhà máy thuộc VETEK để tìm hiểu về các công nghệ tiên tiến và quy trình đổi mới của chúng tôi trong việc sản xuất các sản phẩm sợi carbon.
Sự phát triển của CVD-SiC từ lớp phủ màng mỏng đến vật liệu khối10 2026-04

Sự phát triển của CVD-SiC từ lớp phủ màng mỏng đến vật liệu khối

Vật liệu có độ tinh khiết cao rất cần thiết cho sản xuất chất bán dẫn. Các quá trình này liên quan đến nhiệt độ cực cao và hóa chất ăn mòn. CVD-SiC (Cacbua silic lắng đọng hơi hóa học) mang lại độ ổn định và độ bền cần thiết. Hiện nay nó là lựa chọn hàng đầu cho các bộ phận thiết bị tiên tiến do độ tinh khiết và mật độ cao.
Nút thắt vô hình trong tăng trưởng SiC: Tại sao nguyên liệu thô SiC CVD số lượng lớn 7N lại thay thế bột truyền thống07 2026-04

Nút thắt vô hình trong tăng trưởng SiC: Tại sao nguyên liệu thô SiC CVD số lượng lớn 7N lại thay thế bột truyền thống

Trong thế giới chất bán dẫn Silicon Carbide (SiC), hầu hết sự chú ý đều chiếu vào lò phản ứng epiticular 8 inch hoặc sự phức tạp của việc đánh bóng wafer. Tuy nhiên, nếu chúng ta truy ngược chuỗi cung ứng về thời điểm ban đầu—bên trong lò Vận chuyển Hơi Vật lý (PVT)—một “cuộc cách mạng vật chất” cơ bản đang diễn ra một cách âm thầm.
Tấm áp điện PZT: Giải pháp hiệu suất cao cho MEMS thế hệ tiếp theo20 2026-03

Tấm áp điện PZT: Giải pháp hiệu suất cao cho MEMS thế hệ tiếp theo

Trong thời đại phát triển nhanh chóng của MEMS (Hệ thống vi cơ điện tử), việc lựa chọn vật liệu áp điện phù hợp là quyết định mang tính quyết định đối với hiệu suất của thiết bị. Tấm wafer màng mỏng PZT (Lead Zirconate Titanate) đã nổi lên như sự lựa chọn hàng đầu so với các lựa chọn thay thế như AlN (Aluminum Nitride), cung cấp khả năng ghép nối cơ điện vượt trội cho các cảm biến và bộ truyền động tiên tiến.
Chất cảm ứng có độ tinh khiết cao: Chìa khóa cho năng suất wafer dấu chấm tùy chỉnh vào năm 202614 2026-03

Chất cảm ứng có độ tinh khiết cao: Chìa khóa cho năng suất wafer dấu chấm tùy chỉnh vào năm 2026

Khi hoạt động sản xuất chất bán dẫn tiếp tục phát triển theo hướng các nút quy trình tiên tiến, khả năng tích hợp cao hơn và kiến ​​trúc phức tạp, các yếu tố quyết định đến năng suất tấm bán dẫn đang trải qua một sự thay đổi tinh tế. Đối với việc sản xuất tấm bán dẫn tùy chỉnh, điểm đột phá về năng suất không còn chỉ nằm ở các quy trình cốt lõi như in thạch bản hoặc khắc; chất nhạy cảm có độ tinh khiết cao đang ngày càng trở thành biến số cơ bản ảnh hưởng đến tính ổn định và nhất quán của quá trình.
X
Chúng tôi sử dụng cookie để cung cấp cho bạn trải nghiệm duyệt web tốt hơn, phân tích lưu lượng truy cập trang web và cá nhân hóa nội dung. Bằng cách sử dụng trang web này, bạn đồng ý với việc chúng tôi sử dụng cookie. Chính sách bảo mật
Từ chối Chấp nhận