Chào mừng khách hàng đến thăm Lớp phủ SIC/ TAC Lớp phủ SIC của Veteksemon

Khách hàng ghé thăm nhà máy: Quảng cáo một chương hợp tác mới

Gần đây, chúng tôi rất vinh dự khi nhận được những khách hàng quan trọng từ nhiều khu vực trên thế giới đến thăm nhà máy của nhà máy bán dẫn Vetek ở Trung Quốc. Chuyến thăm này không chỉ cho phép khách hàng hiểu sâu về sự đổi mới công nghệ và sức mạnh sản xuất của chúng tôi trong các lĩnh vựcQuá trình epitaxy bán dẫnvà lớp phủ bán dẫn, nhưng cũng làm sâu thêm mối quan hệ hợp tác của chúng tôi với khách hàng.

Khách hàng Veteksemon kiểm tra các chi tiết về các loại thuốc phân tác epiticular được phủ Tantalum cacat

Chuyến thăm nhà máy: Hiểu sâu về quy trình sản xuất

Trong chuyến thăm, khách hàng đã thể hiện sự quan tâm lớn đếnLớp phủ cacbua siliconVàLớp phủ cacbua tantalumdây chuyền sản xuất. Nhóm R & D của chúng tôi đã giới thiệu các lợi thế kỹ thuật của các sản phẩm và hệ thống kiểm soát chất lượng nghiêm ngặt một cách chi tiết. Là nhà sản xuất lớp phủ cacbua silicon và lớp phủ cacbua tantalum, chúng tôi luôn cam kết áp dụng công nghệ tiên tiến nhất cho thiết kế và sản xuất sản phẩm để đảm bảo mọi thành phần đáp ứng các tiêu chuẩn quốc tế và có thể đáp ứng nhu cầu của các khách hàng khác nhau.

Hiển thị công nghệ: Dẫn đầu hướng phát triển ngành

Trong chuyến thăm, công ty của chúng tôi đã chứng minh được phát triển mới nhấtGiải pháp quy trình epiticular, bao gồm quá trình hoàn chỉnh từ thiết kế, sản xuất đến kiểm tra chất lượng. Khả năng đổi mới của chúng tôi đã được khách hàng công nhận cao và họ đầy kỳ vọng cho sự hợp tác trong tương lai. Đặc biệt là trong lĩnh vực ứng dụng lớp phủ bán dẫn, bộ bán dẫn Vetek liên tục thúc đẩy sự phát triển của ngành công nghiệp với những lợi thế kỹ thuật độc đáo và hiểu biết về thị trường.

Triển vọng trong tương lai: Hợp tác sâu sắc và tương lai đôi bên cùng có lợi

Chuyến thăm của khách hàng này không chỉ là sự công nhận sức mạnh sản xuất của chúng tôi, mà còn đặt nền tảng vững chắc cho sự hợp tác lâu dài giữa hai bên trong tương lai. Chúng tôi tin rằng với những nỗ lực chung của cả hai bên, chúng tôi sẽ đạt được kết quả hiệu quả hơn trong lĩnh vựcQuá trình epitaxy bán dẫnvà lớp phủ bán dẫn trong tương lai.