Lớp phủ CVD TAC là quá trình hình thành lớp phủ dày đặc và bền trên nền (graphit). Phương pháp này liên quan đến việc lắng đọng TaC lên bề mặt chất nền ở nhiệt độ cao, tạo ra lớp phủ tantalum cacbua (TaC) có độ ổn định nhiệt và kháng hóa chất tuyệt vời.
Khi quá trình silicon cacbua 8 inch (SIC) trưởng thành, các nhà sản xuất đang tăng tốc sự thay đổi từ 6 inch sang 8 inch. Gần đây, trên chất bán dẫn và Resonac đã công bố cập nhật về sản xuất SIC 8 inch.
Bài viết này giới thiệu những phát triển mới nhất về lò phản ứng CVD vách nóng PE1O8 được thiết kế mới của công ty LPE của Ý và khả năng thực hiện epit Wax 4H-SiC đồng nhất trên SiC 200mm.
Với nhu cầu ngày càng tăng đối với các vật liệu SIC trong Điện tử năng lượng, Optoelectronics và các lĩnh vực khác, sự phát triển của công nghệ tăng trưởng tinh thể SIC sẽ trở thành một lĩnh vực quan trọng của đổi mới khoa học và công nghệ. Là cốt lõi của thiết bị tăng trưởng tinh thể đơn SIC, thiết kế trường nhiệt sẽ tiếp tục nhận được sự chú ý sâu rộng và nghiên cứu chuyên sâu.
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies.
Privacy Policy