Lắng đọng hơi hóa học (CVD) trong sản xuất chất bán dẫn được sử dụng để lắng đọng các vật liệu màng mỏng trong buồng, bao gồm SiO2, SiN, v.v., và các loại thường được sử dụng bao gồm PECVD và LPCVD. Bằng cách điều chỉnh nhiệt độ, áp suất và loại khí phản ứng, CVD đạt được độ tinh khiết cao, tính đồng nhất và độ phủ màng tốt để đáp ứng các yêu cầu quy trình khác nhau.
Bài viết này chủ yếu mô tả triển vọng ứng dụng rộng của gốm silicon cacbua. Nó cũng tập trung vào việc phân tích các nguyên nhân của các vết nứt thiêu kết trong gốm silicon cacbua và các giải pháp tương ứng.
Chúng tôi sử dụng cookie để cung cấp cho bạn trải nghiệm duyệt web tốt hơn, phân tích lưu lượng truy cập trang web và cá nhân hóa nội dung. Bằng cách sử dụng trang web này, bạn đồng ý với việc chúng tôi sử dụng cookie.Chính sách bảo mật