Làm thế nào để lớp phủ TAC cải thiện tuổi thọ dịch vụ của các thành phần than chì? - Chất bán dẫn Vetek

Lớp phủ cacbua Tantalum CVDđược tạo ra bằng cách lắng đọng hơi Tantalum Carbide (TaC) trên bề mặt chất nền than chì có độ tinh khiết cao bằng quy trình Lắng đọng hơi hóa học (CVD) độc quyền của VeTek Semiconductor.

Lớp phủ Tantalum cacbua (TAC) cải thiện đáng kể tuổi thọ củaCác bộ phận than chìthông qua nhiều cơ chế, đặc biệt là trong môi trường nhiệt độ cao, có tính ăn mòn cao như sản xuất chất bán dẫn và phát triển tinh thể. 

Đây là những lý do cụ thể tại saolớp phủ TaCTăng cường độ bền của các bộ phận than chì:

● Cải thiện điện trở nhiệt độ cao

Độ ổn định nhiệt cực cao: Lớp phủ TAC có thể giữ ổn định ở nhiệt độ cực cao vượt quá 2000 ° C và thậm chí có thể hoạt động hiệu quả ở mức 2200C. Tính dung sai nhiệt độ cao này cho phép lớp phủ chịu được sự xói mòn của kim loại nóng chảy và khí hóa học trong quá trình sản xuất chất bán dẫn, do đó kéo dài tuổi thọ của các bộ phận than chì.

●  Khả năng chống ăn mòn tuyệt vời

Chống xói mòn hóa học: Lớp phủ TaC có khả năng chống lại các khí ăn mòn mạnh như hydro, amoniac và hơi silicon, có thể ngăn chặn hiệu quả các khí này ăn mòn chất nền than chì và giảm nguy cơ hư hỏng các bộ phận than chì trong môi trường khắc nghiệt. Điều này có nghĩa là trong quá trình phát triển tinh thể, lớp phủ có thể ức chế sự di chuyển tạp chất và cải thiện chất lượng cũng như năng suất tinh thể.

● Tính chất cơ học nâng cao

Độ bám dính tốt và điện trở sốc nhiệt: Lớp phủ TAC có độ bám dính mạnh mẽ với chất nền than chì, đảm bảo rằng lớp phủ sẽ không gọt vỏ hoặc phân tách trong các hoạt động ở nhiệt độ cao. Ngoài ra, khả năng chống sốc nhiệt tuyệt vời của nó có thể chịu được sự thay đổi nhiệt độ nhanh chóng mà không bị nứt hoặc bong tróc, tiếp tục mở rộng tuổi thọ của các bộ phận than chì.

● Giảm ô nhiễm tạp chất

Độ tinh khiết cực cao: Lớp phủ TaC có hàm lượng tạp chất cực thấp, giúp giảm các vấn đề ô nhiễm có thể xảy ra trong điều kiện nhiệt độ cao. Bằng cách ngăn chặn các tạp chất không mong muốn di chuyển sang lớp epiticular, lớp phủ TaC cải thiện đáng kể độ tinh khiết và chất lượng của quá trình phát triển tinh thể.

●  Tối ưu hóa quản lý nhiệt

Cải thiện độ dẫn nhiệt và điện trở suất: Lớp phủ TAC có độ dẫn nhiệt và điện trở suất tương đối thấp, cho phép ứng dụng của nó trong máy sưởi và các thành phần quản lý nhiệt khác để cải thiện hiệu quả năng lượng và giảm mất năng lượng. Tính năng này không chỉ cải thiện hiệu quả hoạt động, mà còn làm giảm sự mệt mỏi và thiệt hại vật chất gây ra bởi quá nhiệt.