Mái chèo sic đúc

Tổng quan về việc sử dụng sản phẩm

Mái chèo sic đúc chủ yếu được sử dụng trong các thiết bị sản xuất bán dẫn làm bộ phận hỗ trợ và truyền tải. Chức năng cốt lõi của nó là xử lý ổn định và chính xác các tấm silicon trong các điều kiện quá trình cực kỳ như nhiệt độ cao và ăn mòn cao, đảm bảo một quy trình sản xuất trơn tru và hiệu quả.

Ⅱ.

SIC là một vật liệu gốm tiên tiến có tính chất vật lý tuyệt vời mang lại cho nó một lợi thế vô song trong trường bán dẫn. Sau đây là các tham số vật lý quan trọng liên quan đến mái chèo sic Cantilever:

● Độ tinh khiết cao: Việc sử dụng vật liệu SIC tinh khiết cao có thể giảm thiểu ô nhiễm quy trình và cải thiện năng suất sản phẩm.

● Điện trở nhiệt độ cao tuyệt vời: SIC có một điểm nóng chảy lên tới 2830 ° C, cho phép nó duy trì tính toàn vẹn cấu trúc trong môi trường nhiệt độ khắc nghiệt như khắc huyết tương và ủ nhiệt độ cao, và nhiệt độ vận hành dài hạn có thể đạt hơn 1000 ° C.

● Độ cứng và khả năng chống mài mòn cao: Độ cứng của MOHS là 9-9,5, chỉ đứng sau kim cương, mang lại cho SIC Cantilever Paddles Kháng mòn tuyệt vời và duy trì sự ổn định kích thước trong quá trình truyền wafer tần số cao.

● Độ dẫn nhiệt tuyệt vời: Độ dẫn nhiệt của gốm sic cao tới 120-250 W/(m · k) (giá trị điển hình), có thể nhanh chóng tiêu tan nhiệt và tránh quá nóng cục bộ có thể làm hỏng wafer.

● Hệ số giãn nở nhiệt thấp: Hệ số giãn nở nhiệt thấp (khoảng 4.0 × 10⁻⁶ /k) đảm bảo độ ổn định kích thước khi nhiệt độ thay đổi, tránh căng thẳng do sự giãn nở và co lại, và do đó làm giảm nguy cơ tổn thương wafer.

. Kịch bản ứng dụng của mái chèo sic

Các thuộc tính độc đáo của mái chèo sic Cantilever cho phép chúng đóng vai trò chính trong nhiều liên kết của sản xuất chất bán dẫn:

● Thiết bị khắc plasma: Trong buồng khắc plasma, mái chèo sic Cantilever đóng vai trò hỗ trợ wafer, có thể chịu được bắn phá huyết tương và xói mòn khí ăn mòn trong khi vẫn duy trì sự ổn định kích thước, đảm bảo khắc độ chính xác và kéo dài tuổi thọ của thiết bị.

● Thiết bị lắng đọng màng mỏng (CVD/PVD): Trong quá trình lắng đọng hơi hóa học (CVD) và lắng đọng hơi vật lý (PVD), mái chèo hãng đúc SIC được sử dụng để hỗ trợ các tấm wafer. Điện trở nhiệt độ cao tuyệt vời và độ dẫn nhiệt của chúng giúp làm nóng đồng đều các tấm wafer và ngăn ngừa ô nhiễm hạt được tạo ra trong quá trình lắng đọng màng mỏng.

● Hệ thống chuyển wafer: Trong hệ thống chuyển wafer tự động, mái chèo sic đúc có thể chịu được chuyển động cơ học tần số cao do độ cứng và khả năng chống mài mòn cao, đảm bảo chuyển giao chính xác và nhanh giữa các buồng quy trình khác nhau, làm giảm nguy cơ bị tổn thương và ô nhiễm.

● Quá trình ủ nhiệt độ cao: Trong lò ủ nhiệt độ cao, mái chèo SIC Cantilever có thể chịu được môi trường nhiệt độ cực cao, cung cấp hỗ trợ ổn định cho wafer và đảm bảo tính đồng nhất và hiệu quả của quá trình ủ.

Veteksemon nhận thức rõ về các yêu cầu nghiêm ngặt của các quy trình bán dẫn cho chất lượng sản phẩm. Do đó, chúng tôi hỗ trợ các dịch vụ tùy chỉnh và có thể cung cấp thiết kế và sản xuất mái chèo sic tùy chỉnh theo thiết bị cụ thể và yêu cầu quy trình của bạn. Và chúng tôi cũng sẽ kiểm soát kiểm soát chất lượng nghiêm ngặt để đảm bảo rằng mỗi sản phẩm trải qua kiểm tra chất lượng nghiêm ngặt để đảm bảo rằng nó đáp ứng các tiêu chuẩn công nghiệp cao nhất.

Quan trọng hơn, nhóm kỹ thuật của chất bán dẫn Vetek sẽ cung cấp cho bạn tư vấn kỹ thuật và giải pháp sản phẩm toàn diện. Chọn mái chèo hố sic của chúng tôi có nghĩa là chọn hiệu quả sản xuất cao hơn, tuổi thọ thiết bị dài hơn và năng suất sản phẩm tốt hơn. Mong được tư vấn thêm của bạn.