Tin tức

Vào ngày 5 tháng 9, các khách hàng của Vetek Semiconor đã đến thăm các nhà máy phủ SIC Lớp phủ và TAC Lớp phủ và đạt được các thỏa thuận hơn nữa về các giải pháp xử lý epiticular mới nhất.

Vào ngày 5 tháng 9 năm 2025, một khách hàng từ Ba Lan đã đến thăm một nhà máy thuộc VETEK để tìm hiểu về các công nghệ tiên tiến và quy trình đổi mới của chúng tôi trong việc sản xuất các sản phẩm sợi carbon.

Đưa CO₂ vào nước thái trong quá trình cắt wafer là một biện pháp quy trình hiệu quả để ngăn chặn sự tích tụ điện tích tĩnh và giảm nguy cơ ô nhiễm, từ đó cải thiện năng suất thái hạt lựu và độ tin cậy lâu dài của chip.

Tấm silicon là nền tảng của mạch tích hợp và thiết bị bán dẫn. Chúng có một đặc điểm thú vị - các cạnh phẳng hoặc các rãnh nhỏ ở hai bên. Nó không phải là một khiếm khuyết mà là một điểm đánh dấu chức năng được thiết kế có chủ ý. Trên thực tế, rãnh này đóng vai trò như một điểm đánh dấu tham chiếu định hướng và nhận dạng trong toàn bộ quá trình sản xuất.

Đánh bóng cơ học hóa học (CMP) loại bỏ vật liệu dư thừa và các khuyết tật bề mặt thông qua hoạt động kết hợp của các phản ứng hóa học và mài mòn cơ học. Đây là một quá trình quan trọng để đạt được độ phẳng toàn cầu của bề mặt wafer và không thể thiếu đối với các kết nối đồng nhiều lớp và cấu trúc điện môi có hệ số k thấp. Trong thực tế sản xuất

Vào năm 2025, ngành bán dẫn châu Âu sẽ một lần nữa gặp nhau tại hội chợ thương mại bán dẫn lớn nhất SEMICON Europa ở Munich từ ngày 18 đến 21 tháng 11