Chủ sở hữu Wafer Epi

Bán dẫn Vetek hỗ trợ các dịch vụ sản phẩm tùy chỉnh, vì vậy người giữ Wafer EPI có thể cung cấp cho bạn các dịch vụ sản phẩm tùy chỉnh dựa trên kích thước củawafer(100mm, 150mm, 200mm, 300mm, v.v.). Chúng tôi chân thành hy vọng sẽ trở thành đối tác lâu dài của bạn ở Trung Quốc.

Chức năng và nguyên tắc làm việc của người giữ Wafer EPI

Trong lĩnh vực sản xuất chất bán dẫn, quá trình epitax là rất quan trọng để chế tạo các thiết bị bán dẫn hiệu suất cao. Trọng tâm của quá trình này là người giữ Wafer EPI, đóng vai trò trung tâm trong việc đảm bảo chất lượng và hiệu quả củaTăng trưởng epiticular.

Người giữ Wafer EPI được thiết kế chủ yếu để giữ an toàn wafer trong quá trình epitaxy. Nhiệm vụ chính của nó là duy trì wafer trong môi trường dòng chảy và nhiệt độ được kiểm soát chính xác. Điều khiển tỉ mỉ này cho phép vật liệu epiticular được lắng đọng đều trên bề mặt wafer, một bước quan trọng trong việc tạo ra các lớp bán dẫn đồng nhất và chất lượng cao.

Trong các điều kiện nhiệt độ cao điển hình của quá trình epitaxy, giá đỡ Wafer EPI vượt trội trong chức năng của nó. Nó cố định chắc chắn wafer trong buồng phản ứng trong khi tránh được bất kỳ thiệt hại tiềm tàng nào, chẳng hạn như trầy xước và ngăn ngừa ô nhiễm hạt trên bề mặt wafer.

Tính chất vật chất:Tại saoCarbide silicon (sic)Tỏa sáng

Những người giữ Wafer EPI thường được chế tạo từ cacbua silicon (sic), một vật liệu cung cấp một sự kết hợp độc đáo của các tính chất có lợi. SIC có hệ số giãn nở nhiệt thấp khoảng 4,0 x 10⁻⁶ /° C. Đặc tính này là then chốt trong việc duy trì sự ổn định kích thước của giá đỡ ở nhiệt độ cao. Bằng cách giảm thiểu sự giãn nở nhiệt, nó có hiệu quả ngăn chặn sự căng thẳng trên wafer có thể là kết quả của sự thay đổi kích thước liên quan đến nhiệt độ.

Ngoài ra, SIC tự hào có độ ổn định nhiệt độ cao tuyệt vời. Nó có thể chịu được liền mạch các nhiệt độ cao từ 1.200 ° C đến 1.600 ° C cần thiết trong quá trình epitaxy. Cùng với khả năng chống ăn mòn đặc biệt và độ dẫn nhiệt đáng ngưỡng mộ (thường là từ 120 - 160 w/mk), SIC nổi lên như là sự lựa chọn tối ưu cho các giá đỡ wafer epiticular.

Các chức năng chính trong quy trình epiticular

Tầm quan trọng của chủ sở hữu Wafer trong quá trình epiticular không thể được cường điệu hóa. Nó hoạt động như một chất mang ổn định trong môi trường khí và khí đốt cao, đảm bảo rằng wafer vẫn không bị ảnh hưởng trong quá trình tăng trưởng epiticular và thúc đẩy sự phát triển đồng đều của lớp epiticular.

1. Cố định và căn chỉnh chính xácMột giá đỡ Wafer EPI được thiết kế chính xác cao định vị chắc chắn wafer tại trung tâm hình học của buồng phản ứng. Vị trí này đảm bảo rằng bề mặt wafer tạo thành một góc tiếp xúc lý tưởng với dòng khí phản ứng. Sự liên kết chính xác không chỉ cần thiết để đạt được sự lắng đọng lớp epiticular thống nhất mà còn làm giảm đáng kể nồng độ căng thẳng do độ lệch vị trí wafer.

2. Bộ điều khiển nhiệt và nhiệt độ nhiệtTận dụng độ dẫn nhiệt tuyệt vời của vật liệu SIC, giá đỡ Wafer EPI cho phép truyền nhiệt hiệu quả sang wafer trong môi trường epiticular nhiệt độ cao. Đồng thời, nó thực hiện kiểm soát tốt sự phân bố nhiệt độ của hệ thống sưởi. Cơ chế kép này đảm bảo nhiệt độ nhất quán trên toàn bộ bề mặt wafer, loại bỏ hiệu quả ứng suất nhiệt gây ra bởi độ dốc nhiệt độ quá mức. Do đó, khả năng các khiếm khuyết như cong vênh và vết nứt được giảm thiểu đáng kể.

3. Kiểm soát ô nhiễm và độ tinh khiết vật chấtViệc sử dụng các chất nền SIC có độ tinh khiết cao và vật liệu than chì CVD - được phủ là một trò chơi - thay đổi trong kiểm soát ô nhiễm hạt. Những vật liệu này cắt giảm đáng kể việc tạo ra và khuếch tán các hạt trong quá trình epitaxy, cung cấp một môi trường nguyên sơ cho sự phát triển của lớp epiticular. Bằng cách giảm các khiếm khuyết giao diện, chúng tăng cường chất lượng và độ tin cậy của lớp epiticular.

4. Khả năng khángTrong thời gianMOCVDHoặc các quá trình LPCVD, người giữ Wafer EPI phải chịu đựng các khí ăn mòn như amoniac và trimethyl gallium. Khả năng chống ăn mòn nổi bật của vật liệu SIC cho phép người giữ có tuổi thọ dịch vụ kéo dài, do đó đảm bảo độ tin cậy của toàn bộ quy trình sản xuất.

Dịch vụ tùy chỉnh của Vetek S bán dẫn

Bán dẫn Vetek cam kết đáp ứng nhu cầu của khách hàng đa dạng. Chúng tôi cung cấp các dịch vụ giữ Wafer EPI tùy chỉnh phù hợp với các kích thước wafer khác nhau, bao gồm 100mm, 150mm, 200mm, 300mm và hơn thế nữa. Đội ngũ chuyên gia của chúng tôi dành riêng để cung cấp các sản phẩm chất lượng cao phù hợp với yêu cầu của bạn. Chúng tôi chân thành mong muốn trở thành đối tác dài hạn của bạn ở Trung Quốc, cung cấp cho bạn các giải pháp bán dẫn hàng đầu.

Dữ liệu SEM của cấu trúc tinh thể màng CVD SIC:

Tính chất vật lý cơ bản của lớp phủ CVD sic：

So sánh các cửa hàng sản xuất giá đỡ Wafer EPI Wafer: