Công nghệ MOCVD

MOCVD được phủ SIC của Vetekemon là một thiết bị có quy trình tuyệt vời, độ bền và độ tin cậy. Họ có thể chịu được môi trường hóa học và nhiệt độ cao, duy trì hiệu suất ổn định và tuổi thọ dài, do đó giảm tần suất thay thế và bảo trì và cải thiện hiệu quả sản xuất. MCVD epiticalsor của chúng tôi nổi tiếng với mật độ cao, độ phẳng tuyệt vời và kiểm soát nhiệt tuyệt vời, làm cho nó trở thành thiết bị ưa thích trong môi trường sản xuất khắc nghiệt. Mong được hợp tác với bạn. Hãy đến tham khảo ý kiến ​​bất cứ lúc nào.

Chất nhạy cảm epiticular GaN dựa trên silicon là thành phần cốt lõi cần thiết để sản xuất epiticular GaN. Chất nhạy cảm epiticular GaN dựa trên silicon Veteksemiaon được thiết kế đặc biệt cho hệ thống lò phản ứng epiticular GaN dựa trên silicon, với các ưu điểm như độ tinh khiết cao, khả năng chịu nhiệt độ cao và chống ăn mòn tuyệt vời. Chào mừng bạn tư vấn thêm.