Chất nhạy cảm than chì phủ CVD SiC cho chất mang wafer

1. Ưu điểm của sản phẩm

• Vật liệu có độ tinh khiết cao:Vật liệu than chì cấp bán dẫn và cấu trúc lớp phủ SiC dày đặc giảm thiểu rủi ro ô nhiễm và cải thiện độ tin cậy của chất nhạy cảm than chì phủ CVD SiC.
• Tính đồng nhất nhiệt tuyệt vời:Cấu trúc than chì được tối ưu hóa và lớp phủ SiC giúp truyền nhiệt ổn định và kiểm soát nhiệt độ wafer đồng đều.
• Kháng hóa chất vượt trội:Lớp phủ SiC dày đặc mang lại khả năng chống chịu mạnh mẽ chống lại các loại khí xử lý và môi trường ăn mòn.
• Tuổi thọ dài:Độ cứng cao và khả năng chống mài mòn cải thiện độ bền trong điều kiện epitaxy ở nhiệt độ cao.
• Tạo hạt thấp:Bề mặt SiC CVD dày đặc làm giảm sự giải phóng hạt và cải thiện độ tin cậy của quy trình bán dẫn.
• Khả năng thiết kế tùy chỉnh:Có sẵn ở các kích cỡ, cấu trúc và cấu hình khác nhau tùy theo yêu cầu của thiết bị.

2. Thông số kỹ thuật

3. Ứng dụng

• Quy trình Epitaxy SiC:Chất nhạy cảm than chì được sử dụng làm chất mang wafer trong thiết bị epit Wax SiC, hỗ trợ chất nền SiC trong quá trình tăng trưởng epiticular ở nhiệt độ cao.
• Quy trình epitaxy silicon:Ứng dụng trong lò phản ứng epiticular silicon để hỗ trợ các tấm bán dẫn và duy trì điều kiện nhiệt ổn định.
• Epitaxy MOCVD:Chất nhạy cảm than chì VETEK phù hợp với MOCVD, epit Wax LED, epit Wax GaN, epit Wax silicon và các quy trình sản xuất chất bán dẫn khác đòi hỏi độ đồng đều nhiệt và ổn định hóa học tuyệt vời..
• Thiết bị sản xuất chất bán dẫn:Tương thích với nhiều nền tảng epit Wax khác nhau, bao gồm lò ngang LPE, Aixtron, NuFlare và các thiết bị bán dẫn liên quan.

4. Tại sao chọn VETEK?

VETEK cung cấp các giải pháp chất nhạy cảm than chì được phủ CVD SiC tùy chỉnh tích hợp tinh chế than chì, gia công chính xác, phủ CVD và khả năng kiểm tra. Các sản phẩm chất nhạy cảm than chì cấp bán dẫn của chúng tôi có độ tinh khiết cao, độ dày lớp phủ đồng đều, hiệu suất nhiệt tuyệt vời và tuổi thọ lâu dài cho các ứng dụng mang tấm bán dẫn có yêu cầu khắt khe.