LPE Halfmoon SIC EPI Lò phản ứng

LPE Halfmoon SIC EPI Lò phản ứnglà một thiết bị được thiết kế đặc biệt để sản xuất chất lượng caosilicon cacbua (sic) epitaxialCác lớp, trong đó quá trình epiticular xảy ra trong buồng phản ứng nửa mặt trăng LPE, trong đó chất nền được tiếp xúc với các điều kiện khắc nghiệt như nhiệt độ cao và khí ăn mòn. Để đảm bảo tuổi thọ và hiệu suất của các thành phần buồng phản ứng, lắng đọng hơi hóa học (CVD)Lớp phủ sicthường được sử dụng. 

LPE Halfmoon SIC EPI Lò phản ứngCác thành phần:

Buồng phản ứng chính: Buồng phản ứng chính được làm bằng các vật liệu kháng nhiệt độ cao như cacbua silicon (sic) vàthan chì, có khả năng chống ăn mòn hóa học cực cao và khả năng chịu nhiệt độ cao. Nhiệt độ hoạt động thường nằm trong khoảng từ 1.400 ° C đến 1.600 ° C, có thể hỗ trợ sự phát triển của các tinh thể cacbua silicon trong điều kiện nhiệt độ cao. Áp suất hoạt động của buồng phản ứng chính là giữa 10^-3và 10^-1Mbar, và tính đồng nhất của tăng trưởng epiticular có thể được kiểm soát bằng cách điều chỉnh áp suất.

Thành phần sưởi ấm: Máy sưởi cacbua than chì hoặc silicon (sic) thường được sử dụng, có thể cung cấp nguồn nhiệt ổn định trong điều kiện nhiệt độ cao.

Chức năng chính của lò phản ứng SIC Halfmoon SIC EPI là phát triển các màng cacbua silicon chất lượng cao. Cụ thể,Nó được thể hiện trong các khía cạnh sau đây:

Tăng trưởng lớp epiticular: Thông qua quá trình epitaxy pha lỏng, các lớp epiticular cực kỳ có thể được phát triển trên các chất nền SIC, với tốc độ tăng trưởng khoảng 1 Nott10μm/h, có thể đảm bảo chất lượng tinh thể cực cao. Đồng thời, tốc độ dòng khí trong buồng phản ứng chính thường được kiểm soát ở mức 10100100 SCCM (centimet khối tiêu chuẩn mỗi phút) để đảm bảo tính đồng nhất của lớp epiticular.

Độ ổn định nhiệt độ cao: Các lớp epiticular SIC vẫn có thể duy trì hiệu suất tuyệt vời dưới nhiệt độ cao, áp suất cao và môi trường tần số cao.

Giảm mật độ khiếm khuyết: Thiết kế cấu trúc độc đáo của Lò phản ứng SIC Halfmoon EPI có thể làm giảm hiệu quả việc tạo ra các khuyết tật tinh thể trong quá trình epitaxy, do đó cải thiện hiệu suất và độ tin cậy của thiết bị.

Bán dẫn Vetek cam kết cung cấp các giải pháp sản phẩm và công nghệ tiên tiến cho ngành công nghiệp bán dẫn. Đồng thời, chúng tôi hỗ trợ các dịch vụ sản phẩm tùy chỉnh.Chúng tôi chân thành hy vọng sẽ trở thành đối tác lâu dài của bạn ở Trung Quốc.

Dữ liệu SEM của cấu trúc tinh thể màng CVD SIC:

Tính chất vật lý cơ bản của lớp phủ CVD sic：

Vetek S bán dẫn LPE HalfMoon SIC EPI Progates Sản xuất: