PAN-Dựa trên sợi carbon mềm nỉ

1. Các yếu tố hiệu suất cốt lõi

• Độ tinh khiết cao:Các loại có độ tinh khiết cao với hàm lượng tro được giữ dưới 20 ppm, để ngăn ngừa ô nhiễm trong quá trình phát triển của chất bán dẫn nhạy cảm.
• Hiệu suất nhiệt:Độ dẫn nhiệt thấp 0,1-0,13 W/(m*k) ở 25°C duy trì độ dốc nhiệt độ ổn định và giảm thất thoát năng lượng.
• Khả năng chịu nhiệt:Độ ổn định đáng tin cậy ngay cả trong môi trường vượt quá 2200°C.
• Tính toàn vẹn về cấu trúc:Quá trình tạo hình bằng khí nén của chúng tôi giữ cho các sợi đều nhau. Điều này ngăn ngừa các điểm nóng và sự mệt mỏi về vật chất thường làm gián đoạn chu kỳ tăng trưởng dài.  

3. Ứng dụng

Sản xuất chất bán dẫn:Đây là lớp cách nhiệt quan trọng cho các thiết lập lò tăng trưởng tinh thể silicon và tinh thể SiC đơn tinh thể.

Truyền thông sợi quang:Lý tưởng để sử dụng trong lò thiêu kết, tháp kéo và sản xuất thanh nhiệt độ cao.

Nghiên cứu nâng cao:Được tin cậy trong các lò tăng trưởng sapphire và hệ thống lọc nhiệt độ cao chuyên dụng.

4. Tại sao chọn VETEK?

Thông lượng nhanh hơn:Bằng cách sử dụng các vật liệu có nhiệt dung riêng thấp, chúng tôi đã thực hiện chu trình nhiệt nhanh hơn nhiều—điều này trực tiếp làm tăng thông lượng hàng ngày của bạn.

Che chắn đáng tin cậy:Trọng tâm sản xuất của chúng tôi là kiểm soát mật độ sợi một cách nghiêm ngặt; chúng tôi loại bỏ các điểm yếu để bạn có được sự che chắn đáng tin cậy trên toàn bộ buồng.

Tiêu chuẩn HPSI:Đối với các quy trình HPSI và RF, các tiêu chuẩn có độ tinh khiết cao của chúng tôi được thiết kế đặc biệt để đáp ứng các yêu cầu nhạy cảm, có điện trở suất cao đó.
Cài đặt đơn giản:Vì vật liệu này có tính linh hoạt tự nhiên nên nó có thể được cắt chính xác để phù hợp với các hình dạng phức tạp, điều này thực sự giúp đơn giản hóa toàn bộ quá trình lắp đặt.