Tac Coating Chuck

Chuck lớp phủ TAC của Vetek S bán dẫn là giải pháp lý tưởng để đạt được kết quả đặc biệt trong quy trình SIC EPI. Với lớp phủ cacbua tan, kháng nhiệt độ cao và trơ hóa hóa học, sản phẩm của chúng tôi cho phép bạn tạo ra các tinh thể chất lượng cao với độ chính xác và độ tin cậy.

TAC tantalum cacbua là một vật liệu thường được sử dụng để phủ lên bề mặt của các bộ phận bên trong của thiết bị epiticular. Nó có các đặc điểm sau:

● Điện trở nhiệt độ cao tuyệt vời: Lớp phủ cacbua tantalum có thể chịu được nhiệt độ lên tới 2200 ° C, khiến chúng trở nên lý tưởng cho các ứng dụng trong môi trường nhiệt độ cao như buồng phản ứng epiticular.

● Độ cứng cao: Độ cứng của cacbua tantalum đạt khoảng 2000 HK, khó hơn nhiều so với hợp kim thép không gỉ hoặc nhôm thường được sử dụng, có thể ngăn ngừa hao mòn bề mặt một cách hiệu quả.

● Độ ổn định hóa học mạnh mẽ: Lớp phủ cacbua tantalum hoạt động tốt trong môi trường ăn mòn hóa học và có thể mở rộng đáng kể tuổi thọ của các thành phần thiết bị epiticular.

● Độ dẫn điện tốt: Bề mặt lớp phủ có độ dẫn điện tốt, có lợi cho việc giải phóng tĩnh điện và dẫn nhiệt.

Những đặc tính này làm cho lớp phủ cacbua TAC tantalum trở thành một vật liệu lý tưởng để sản xuất các bộ phận quan trọng như ống lót bên trong, tường buồng phản ứng và các yếu tố sưởi ấm cho thiết bị epiticular. Bằng cách phủ các thành phần này với TAC, hiệu suất tổng thể và tuổi thọ dịch vụ của thiết bị epiticular có thể được cải thiện.

Đối với epitaxy cacbua silicon, lớp phủ TAC cũng có thể đóng một vai trò quan trọng. Lớp phủ bề mặt là mịn màng và dày đặc, có lợi cho sự hình thành các màng silicon chất lượng cao. Đồng thời, độ dẫn nhiệt tuyệt vời của TAC có thể giúp cải thiện tính đồng nhất của phân bố nhiệt độ bên trong thiết bị, do đó cải thiện độ chính xác của nhiệt độSilicon cacbua epiticularTăng trưởng lớp.

Các cửa hàng sản phẩm của Semiconductor của Vetek: