TAC Lớp phủ Tiểu mục

Phân tích Vetek S bán dẫn TAC của TAC vàTAC phủnhẫnLàm việc cùng nhau trong lò phản ứng tăng trưởng epiticular lpe silicon cacbua:

● Điện trở nhiệt độ cao: TheLớp phủ TACBộ nhớ có điện trở nhiệt độ cao tuyệt vời, có thể chịu được nhiệt độ khắc nghiệt lên tới 1500 ° C trongLò phản ứng LPE. Điều này đảm bảo các thiết bị và thành phần không biến dạng hoặc bị hư hỏng trong quá trình hoạt động lâu dài.

● Độ ổn định hóa học: Bộ nhớ lớp phủ TAC thực hiện đặc biệt tốt trong môi trường tăng trưởng cacbua silicon ăn mòn, che chắn hiệu quả các thành phần lò phản ứng khỏi cuộc tấn công hóa học ăn mòn, do đó kéo dài tuổi thọ dịch vụ của chúng.

● Ổn định nhiệt: Bộ nhớ lớp phủ TAC có độ ổn định nhiệt tốt, duy trì hình thái bề mặt và độ nhám để đảm bảo tính đồng nhất của trường nhiệt độ trong lò phản ứng, có lợi cho sự tăng trưởng chất lượng cao của các lớp epit trục cacbua silicon.

● Chống nhiễm bẩn: Bề mặt phủ TAC mịn và hiệu suất TPD (giải hấp được lập trình nhiệt độ) vượt trội có thể giảm thiểu sự tích lũy và hấp phụ các hạt và tạp chất bên trong lò phản ứng, ngăn ngừa ô nhiễm các lớp epiticular.

Tóm lại, bộ nhớ và vòng phủ TAC đóng vai trò bảo vệ quan trọng trong lò phản ứng tăng trưởng epiticular cacbua LPE silicon, đảm bảo hoạt động ổn định lâu dài của thiết bị và sự tăng trưởng chất lượng cao của các lớp epiticular.