Công nghệ & giải pháp

Công nghệ & giải pháp

01 Ranh giới hiệu suất của CVD SiC, TaC và SiC rắn trong quy trình Epitaxy và khắc axit
05

01 Ranh giới hiệu suất của CVD SiC, TaC và SiC rắn trong quy trình Epitaxy và khắc axit

Việc chọn đúng loại CVD SiC, lớp phủ TaC hoặc Solid SiC sẽ trực tiếp xác định mức độ hạt và tuổi thọ thành phần trên dây chuyền epit Wax/ăn mòn. Bài viết này cung cấp các ranh giới lựa chọn rõ ràng theo nhiệt độ, không khí và quy trình, phù hợp với các giải pháp thay thế thiết bị chính và các chỉ số chính để giúp bạn đưa ra quyết định nhanh chóng và giảm thiểu rủi ro.
Xem thêm
Công nghệ Laser dẫn hướng bằng nước: Gia công vi lỗ chính xác cho chất nền SiC
06

Công nghệ Laser dẫn hướng bằng nước: Gia công vi lỗ chính xác cho chất nền SiC

Khám phá cách công nghệ laser dẫn hướng bằng nước của VeTek mang lại các lỗ xuyên Φ0,15 mm đồng đều trên nền SiC 2 mm không có độ côn, HAZ tối thiểu và năng suất cao cho các ứng dụng bán dẫn.
Xem thêm
Giải pháp chốt nâng rỗng VETEK-AMAT: Chất nền than chì có độ tinh khiết cao với lớp phủ CVD SiC
07

Giải pháp chốt nâng rỗng VETEK-AMAT: Chất nền than chì có độ tinh khiết cao với lớp phủ CVD SiC

Vấn đề kỹ thuật thách thức nhất đối với các chân nâng rỗng của thiết bị bán dẫn không phải là lớp phủ bề mặt bên ngoài mà là đạt được lớp phủ CVD ổn định và đồng nhất trên thành trong của cấu trúc rỗng. Từ việc kiểm soát tính đồng nhất của lớp phủ thành bên trong đến đảm bảo độ sạch của lỗ khoan bên trong, mỗi bước của quy trình đều ảnh hưởng trực tiếp đến năng suất bán bán dẫn. Bài viết này phân tích những thách thức cốt lõi của lớp phủ tường bên trong chốt nâng rỗng và các lộ trình kỹ thuật chính.
Xem thêm
X
Chúng tôi sử dụng cookie để cung cấp cho bạn trải nghiệm duyệt web tốt hơn, phân tích lưu lượng truy cập trang web và cá nhân hóa nội dung. Bằng cách sử dụng trang web này, bạn đồng ý với việc chúng tôi sử dụng cookie. Chính sách bảo mật
Từ chốiChấp nhận