Chất cảm ứng phủ CVD TaC

Định nghĩa và thành phần sản phẩm

Bộ cảm biến phủ phủ VETEK CVD TaC là thành phần mang wafer cao cấp được sử dụng đặc biệt để xử lý epiticular bán dẫn thế hệ thứ ba (SiC, GaN, AlN). Sản phẩm này kết hợp những ưu điểm vật lý của hai vật liệu hiệu suất cao:

Chất nền than chì có độ tinh khiết cao: Sử dụng quy trình đúc ép đẳng tĩnh để đảm bảo chất nền có độ bền kết cấu vượt trội, mật độ cao và độ ổn định khi xử lý nhiệt.

Lớp phủ CVD TaC: Lớp bảo vệ Tantalum Carbide (TaC) dày đặc, không bị căng thẳng được hình thành trên bề mặt than chì thông qua công nghệ lắng đọng hơi hóa học (CVD) tiên tiến.

Ưu điểm kỹ thuật cốt lõi: Khả năng thích ứng với môi trường cực kỳ khắc nghiệt

Trong quy trình MOCVD, lớp phủ TaC không chỉ là lớp bảo vệ vật lý mà còn là cốt lõi để đảm bảo tính lặp lại của quy trình:

Chịu được nhiệt độ cực cao: TaC có điểm nóng chảy cao tới 3880°C, duy trì độ ổn định hình dạng tuyệt vời ngay cả trong các quy trình epiticular ở nhiệt độ cực cao trên 1600°C.

Chống ăn mòn tuyệt vời: Trong môi trường khử mạnh chứa NH₃(Amoniac) hoặc H₂(Hydrogen), tốc độ ăn mòn của TaC cực kỳ thấp, ngăn ngừa hiệu quả sự mất mát chất nền và kết tủa tạp chất.

Đảm bảo độ tinh khiết cực cao: Độ tinh khiết của lớp phủ cao tới 99,9995%. Cấu trúc dày đặc của nó bịt kín hoàn toàn các vi lỗ than chì, đảm bảo màng epiticular đạt mức tạp chất cực thấp.

Phân phối trường nhiệt chính xác: Công nghệ kiểm soát lớp phủ được tối ưu hóa của VETEK đảm bảo chênh lệch nhiệt độ bề mặt cảm ứng được kiểm soát trong phạm vi ±2°C, cải thiện đáng kể độ dày và tính nhất quán bước sóng của lớp epiticular wafer.

Thông số kỹ thuật

Lớp phủ tantalum cacbua (TaC) trên mặt cắt ngang cực nhỏ:

Các trường ứng dụng cốt lõi

Tăng trưởng epiticular SiC (Silicon cacbua): Hỗ trợ sản xuất các thiết bị nguồn SiC 6 inch, 8 inch và kích thước lớn hơn.

Thiết bị dựa trên GaN (Gallium Nitride): Được sử dụng trong quy trình MOCVD cho đèn LED có độ sáng cao, thiết bị nguồn HEMT và chip RF.

Tăng trưởng AlN (Nhôm Nitride) và UVC: Cung cấp giải pháp chất mang ở nhiệt độ cực cao (1400°C+) cho các vật liệu có dải thông cực rộng như đèn LED UV sâu.

Hỗ trợ nghiên cứu tùy chỉnh: Thích ứng với nhu cầu tùy chỉnh chính xác của các viện nghiên cứu đối với các bộ phận không đều và đĩa nhiều lỗ.

Các mô hình tương thích và dịch vụ tùy chỉnh

VETEK sở hữu khả năng phủ và xử lý cơ khí chính xác, thích ứng hoàn hảo với các thiết bị MOCVD phổ thông toàn cầu:

AIXTRON: Hỗ trợ các đĩa và đế quay hành tinh khác nhau.

Veeco: Hỗ trợ K465i, Propel và các dòng cảm biến dọc khác.

AMEC và những người khác: Cung cấp các bộ phận thay thế hoặc giải pháp nâng cấp tương thích hoàn toàn.