Chất mang wafer thạch anh có độ tinh khiết cao

1. Các tính năng và ưu điểm chính

• Thạch anh nung chảy khử hydroxyl có độ tinh khiết cực cao (SiO₂ ≥ 99,999%) với tạp chất kim loại được kiểm soát ở mức ppb—giảm thiểu ô nhiễm wafer

• Nhiệt độ hoạt động lâu dài lên tới 1100 ° C; kháng đỉnh ngắn hạn tới 1200 ° C

• Khả năng chống sốc nhiệt tuyệt vời và ổn định kích thước trong chu trình nhiệt độ thường xuyên

• Độ trơ hóa học mạnh chống lại khí quá trình oxy hóa và các hóa chất xử lý ướt thông thường (HF, H₂O₂, axit/kiềm)

• Bề mặt có độ phẳng cao và được mài chính xác với các cạnh được bo tròn để hỗ trợ tấm wafer đồng đều và giảm hư hỏng cạnh

• Độ thoát khí chân không thấp và khả năng hấp phụ bề mặt thấp—thích hợp cho các quy trình chân không chính xác

• Cấu trúc hoàn toàn có thể tùy chỉnh: khung đỡ chắc chắn, thiết kế đục lỗ/thông hơi, tính năng định vị theo bậc, lỗ định vị, giá đỡ đa điểm và thiết kế dày chống biến dạng cho tấm wafer 2–12 inch

2. Ứng dụng điển hình

Những chất mang này được sử dụng ở bất cứ nơi nào các tấm bán dẫn cần sự hỗ trợ sạch sẽ, ổn định về kích thước trong điều kiện nhiệt độ cao hoặc hóa chất mạnh:

• Tải lò khuếch tán và ủ

• Hỗ trợ quá trình tăng trưởng phim PECVD và LPCVD

• Buồng chân không và dụng cụ xử lý nhiệt độ cao

• Các trạm vận chuyển trạm làm khô và làm sạch ướt sau khắc

• Xử lý nhiệt thiết bị điện SiC và GaN

• Dụng cụ xử lý chất nền quang điện tử và nhiệt trong phòng thí nghiệm

3. Các thông số kỹ thuật chính

• Vật liệu cơ bản: thạch anh nung chảy khử hydroxyl cấp bán dẫn, SiO₂ ≥ 99,999%

• Kích thước wafer tương thích: 2, 4, 6, 8 và 12 inch (Si, SiC, GaN, sapphire)

• Phạm vi nhiệt độ liên tục được đề xuất: −20 °C đến 1100 °C; đỉnh điểm ngắn hạn lên tới khoảng 1200 ° C

• Lộ trình sản xuất: tạo hình một mảnh, mài bề mặt chính xác, làm tròn cạnh, ủ giảm căng thẳng và làm sạch lần cuối siêu sạch

• Các cấu hình có sẵn: hình học đặc, có lỗ thông hơi/đục lỗ, định vị theo bậc, có hoa văn lỗ và hình học hoàn toàn tùy chỉnh

• Trọng tâm hiệu suất: độ tinh khiết cao, ổn định nhiệt, chống ăn mòn, độ phẳng bề mặt, thoát khí thấp và duy trì kích thước lâu dài

• Phạm vi tùy chỉnh: kích thước bên ngoài, độ dày, hình học hỗ trợ, bố trí lỗ và các tính năng đặc biệt dựa trên bản vẽ của khách hàng

4. Tại sao chọn nhà cung cấp wafer thạch anh có độ tinh khiết cao VeTek?

Là nhà sản xuất linh kiện thạch anh bán dẫn chuyên nghiệp, VeTek Semiconductor cung cấp:

• Các vật mang wafer thạch anh có độ tinh khiết cao được thiết kế cho môi trường nhiệt, chân không và quy trình ướt

• Kiểm soát độ tinh khiết nghiêm ngặt, độ phẳng bề mặt và độ sạch phù hợp cho sản xuất chất bán dẫn tiên tiến

• Tùy chỉnh hoàn toàn và thiết kế tương thích OEM cho dụng cụ lò, buồng và trạm xử lý

• Các sản phẩm thạch anh bán dẫn bổ sung bao gồm ống lò, thuyền bán dẫn, nồi nấu kim loại và các thành phần quy trình khác

Chất mang wafer thạch anh có độ tinh khiết cao của chúng tôi giúp duy trì tiếp xúc nhiệt đồng đều, giảm ô nhiễm hạt và kim loại, đồng thời kéo dài tuổi thọ dụng cụ trong điều kiện quy trình ăn mòn và nhiệt độ cao liên tục—hỗ trợ năng suất cao hơn và chi phí sở hữu thấp hơn trong sản xuất chất bán dẫn.