Tin tức

Tất cả chúng tôi đều cảm thấy khoảnh khắc hoảng loạn. Pin điện thoại của bạn ở mức 5%, bạn có phút rảnh rỗi và mỗi lần cắm thứ hai đều cảm thấy như một sự vĩnh cửu. Điều gì sẽ xảy ra nếu bí mật để kết thúc sự lo lắng này không nằm ở một hóa học hoàn toàn mới, mà là trong việc tái hiện một vật liệu cơ bản trong chính pin? Trong hai thập kỷ đi đầu trong công nghệ, tôi đã thấy các xu hướng đến và đi. Nhưng tiếng vang xung quanh than chì xốp cảm thấy khác nhau. Nó không chỉ là một bước gia tăng; Nó đại diện cho một sự thay đổi cơ bản trong cách chúng ta tiếp cận thiết kế lưu trữ năng lượng.

Tại Vetek, chúng tôi đã dành nhiều thập kỷ để tinh chỉnh các giải pháp than chì đẳng hướng của chúng tôi cho các ngành công nghiệp đòi hỏi độ tin cậy ở nhiệt độ tăng vọt. Hãy cùng đi sâu vào lý do tại sao vật liệu này là một lựa chọn hàng đầu và cách các sản phẩm của chúng tôi vượt trội so với đối thủ.

Đã làm việc trong ngành công nghiệp bán dẫn trong hơn một thập kỷ, tôi hiểu tận mắt sự lựa chọn vật liệu đầy thách thức có thể là như thế nào trong môi trường năng lượng cao, nhiệt độ cao. Mãi đến khi tôi gặp Block SIC của Vetek, cuối cùng tôi mới tìm thấy một giải pháp thực sự đáng tin cậy.

Veteksemonon tỏa sáng tại Triển lãm quốc tế Semicon Semicon 2025, dẫn đầu tương lai của ngành công nghiệp bán dẫn với các công nghệ sáng tạo

Trong ngành sản xuất chất bán dẫn, khi kích thước thiết bị tiếp tục co lại, công nghệ lắng đọng của vật liệu màng mỏng đã đặt ra những thách thức chưa từng có. Sự lắng đọng lớp nguyên tử (ALD), như một công nghệ lắng đọng màng mỏng có thể đạt được sự kiểm soát chính xác ở cấp độ nguyên tử, đã trở thành một phần không thể thiếu của sản xuất chất bán dẫn. Bài viết này nhằm giới thiệu dòng quy trình và các nguyên tắc của ALD để giúp hiểu vai trò quan trọng của nó trong sản xuất chip tiên tiến.

Đó là lý tưởng để xây dựng các mạch tích hợp hoặc thiết bị bán dẫn trên một lớp cơ sở tinh thể hoàn hảo. Quá trình epit Wax (epi) trong sản xuất chất bán dẫn nhằm mục đích tạo ra một lớp đơn tinh thể mịn, thường khoảng 0,5 đến 20 micron, trên chất nền đơn tinh thể. Quá trình epit Wax là một bước quan trọng trong việc sản xuất các thiết bị bán dẫn, đặc biệt là trong sản xuất tấm bán dẫn silicon.