Tấm phân phối khí thạch anh

Các tấm phân phối khí thạch anh, còn được gọi là vòi hoa sen thạch anh, là các thành phần quan trọng trong chế tạo chất bán dẫn. Tận dụng độ tinh khiết đặc biệt, khả năng chống nhiệt độ cao và khả năng chống ăn mòn của thạch anh, các tấm này đảm bảo một dòng khí xử lý đồng đều và ổn định lên bề mặt wafer. Việc giao hàng chính xác này là rất cần thiết để duy trì chất lượng và tính đồng nhất của các bộ phim lắng đọng hoặc các tính năng khắc.

Các tính năng chính của thạch anh hợp nhất độ tinh khiết cao

● Vật liệu: 99,99%Quartz hợp nhất độ tinh khiết cao

● Điện trở nhiệt độ cao: Chịu được nhiệt độ trên 1000 ℃

● Khả năng chống ăn mòn: Độ bền tuyệt vời đối với khí thải và môi trường plasma

● Lưu lượng khí chính xác: Phân phối lỗ vi mô thống nhất để phân phối và lắng đọng khí tối ưu

● Thiết kế có thể tùy chỉnh: Kích thước, mẫu lỗ và tính năng gắn có thể được điều chỉnh cho các mô hình thiết bị cụ thể

Vai trò cốt lõi trong sản xuất chất bán dẫn

1. Sự lắng đọng hơi vật lý (PVD) & lắng đọng hơi hóa học (CVD)

Vai trò: Trong các quá trình PVD và CVD, tấm phân phối khí chỉ đạo chính xác các khí phản ứng (ví dụ: silane, amoniac, oxy) hoặc tiền chất lên wafer để tạo thành một màng mỏng mong muốn.

Sử dụng cụ thể:

● Kiểm soát tính đồng nhất: Các lỗ vi mô được thiết kế chính xác của tấm đảm bảo rằng dòng khí và nồng độ là đồng đều trên toàn bộ bề mặt wafer. Điều này là rất quan trọng để gửi phim với độ dày và hiệu suất nhất quán.

● Phòng ngừa ô nhiễm: Độ tinh khiết cao của thạch anh ngăn ngừa tấm phản ứng với khí xử lý hoặc giải phóng tạp chất. Điều này duy trì độ tinh khiết của bộ phim và ngăn ngừa các khiếm khuyết trên bề mặt wafer.

2. Lấy hơi hóa học tăng cường huyết tương (PECVD)

Vai trò: Trong PECVD, vòi hoa sen thạch anh không chỉ cung cấp các loại khí phản ứng mà còn hoạt động như một điện cực để tạo ra plasma.

Sử dụng cụ thể:

● Đánh lửa plasma: Đầu vòi hoa sen thường được kết nối với nguồn năng lượng tần số vô tuyến (RF) để tạo plasma. Các hạt năng lượng cao trong huyết tương thúc đẩy sự phân hủy của các chất phản ứng khí, cho phép lắng đọng màng ở nhiệt độ thấp hơn.

● Độ ổn định nhiệt: Thạch anh thể hiện sự ổn định nhiệt tuyệt vời, cho phép nó chịu được môi trường plasma ở nhiệt độ cao. Điều này giúp duy trì nhiệt độ đồng đều trong buồng quy trình, đảm bảo chất lượng và tính nhất quán của màng.

3. Khắc khô

Vai trò: Trong khắc khô, tấm phân phối khí giới thiệu các khí khắc phản ứng (ví dụ: fluorocarbon, clo) vào buồng khắc.

Sử dụng cụ thể:

● Tính đồng nhất của ETCH: Tấm đảm bảo dòng chảy đồng đều và nồng độ của khí khắc, đảm bảo độ sâu và cấu hình khắc nhất quán trên toàn bộ wafer. Điều này là rất quan trọng để đạt được các mẫu chính xác cần thiết cho các thiết bị bán dẫn tiên tiến.

● Khả năng chống ăn mòn: Các đặc tính ăn mòn mạnh của khí khắc đòi hỏi một vật liệu bền. Khả năng chống ăn mòn cao của thạch anh kéo dài tuổi thọ của vòi hoa sen và giảm nguy cơ gián đoạn quá trình.

4. Làm sạch wafer

Vai trò: Trong các quá trình làm sạch wafer cụ thể, một tấm phân phối khí thạch anh được sử dụng để cung cấp khí làm sạch (ví dụ: ozone, amoniac) đồng đều với bề mặt wafer để loại bỏ dư lượng hoặc chất gây ô nhiễm.

Sử dụng cụ thể:

● Làm sạch nhất quán: Tấm đảm bảo rằng việc làm sạch khí đạt đến mọi phần của wafer, cho phép quy trình làm sạch kỹ lưỡng và thống nhất.

● Khả năng tương thích hóa học: Khả năng tương thích của thạch anh với một loạt các hóa chất làm sạch ngăn chặn các phản ứng và duy trì độ tinh khiết và hiệu quả của quá trình làm sạch.