Chất mang wafer phủ SiC

Vetek Semiconductor chuyên sản xuất và cung cấp các chất mang bán dẫn phủ SiC hiệu suất cao và cam kết cung cấp các giải pháp sản phẩm và công nghệ tiên tiến cho ngành bán dẫn.

Trong sản xuất chất bán dẫn, chất mang bán dẫn phủ SiC của Vetek Semiconductor là thành phần chính trong thiết bị lắng đọng hơi hóa học (CVD), đặc biệt là trong thiết bị lắng đọng hơi hóa học hữu cơ kim loại (MOCVD). Nhiệm vụ chính của nó là hỗ trợ và làm nóng lớp nền đơn tinh thể để lớp epitaxy có thể phát triển đồng đều. Điều này rất cần thiết để sản xuất các thiết bị bán dẫn chất lượng cao.

Khả năng chống ăn mòn của lớp phủ SiC rất tốt, có thể bảo vệ hiệu quả nền than chì khỏi khí ăn mòn. Điều này đặc biệt quan trọng trong môi trường nhiệt độ cao và ăn mòn. Ngoài ra, khả năng dẫn nhiệt của vật liệu SiC cũng rất tuyệt vời, có thể dẫn nhiệt đều và đảm bảo phân bố nhiệt độ đồng đều, từ đó cải thiện chất lượng tăng trưởng của vật liệu epiticular.

Lớp phủ SiC duy trì sự ổn định hóa học ở nhiệt độ cao và môi trường ăn mòn, tránh vấn đề hư hỏng lớp phủ. Quan trọng hơn, hệ số giãn nở nhiệt của SiC tương tự như than chì, có thể tránh được vấn đề bong tróc lớp phủ do giãn nở và co lại nhiệt, đồng thời đảm bảo độ ổn định và độ tin cậy lâu dài của lớp phủ.

Tính chất vật lý cơ bản củaChất mang wafer phủ SiC:

Cửa hàng sản xuất:

Tổng quan về chuỗi công nghiệp epitaxy chip bán dẫn: