Pin nâng wafer AMAT 0200-03201 CVD SiC

Tính năng sản phẩm

 ● Lõi than chì có độ tinh khiết cao + lớp phủ CVD SiC – được chế tạo để sản xuất chất bán dẫn thực sự.

 ● Xử lý quá trình epitaxy ở nhiệt độ cao mà không làm mất đi độ ổn định cơ học hết chu kỳ này đến chu kỳ khác.

 ● Hình dạng thành mỏng giúp giảm khối lượng nhiệt và cải thiện độ chính xác khi xử lý tấm bán dẫn.

 ● Lớp SiC có khả năng chống lại các loại khí xử lý mạnh và làm sạch bằng hóa chất.

 ● Lớp phủ mịn, đồng đều có nghĩa là ít rơi hạt hơn và xử lý ổn định hơn. Chúng tôi duy trì dung sai chặt chẽ bằng gia công CNC cho các bộ phận bán dẫn quan trọng.

Tính chất vật lý cơ bản của lớp phủ CVD SiC

Ứng dụng

 ● Silicon epit Wax (Si EPI) – nâng, định vị và di chuyển các tấm bán dẫn bên trong lò phản ứng 300mm.

 ● Xử lý tấm bán dẫn nói chung trong đó bạn cần độ ổn định nhiệt, khả năng chống ăn mòn, lượng hạt thấp và tuổi thọ dài.

 ● Buồng epitaxy AMAT và hệ thống xử lý tấm bán dẫn tương thích.

Tại sao chọn Chất bán dẫn VeTek

 ● Than chì phủ SiC có độ tinh khiết cao dành cho sử dụng chất bán dẫn.

 ● Tính ổn định nhiệt và kháng hóa chất đều ở dạng rắn.

 ● Giữ dung sai chặt chẽ — gia công chính xác là mục tiêu của chúng tôi.

 ● Tương thích với AMAT, ASM, Aixtron và LPE.