Cvd sic phủ dummy wafer

Các tính năng sản phẩm của Veteksemi CVD SIC Lớp phủ Dummy Wafer:

● Điện trở khí nhiệt độ cao: SIC giả wafer có khả năng chống xói mòn khí nhiệt độ cao, phù hợp để sử dụng trong điều kiện khắc nghiệt. Khả năng phục hồi này đảm bảo hiệu suất nhất quán ngay cả trong các môi trường đòi hỏi khắt khe nhất.

● Tính toàn vẹn cấu trúc lâu dài: Pha giả Lớp phủ CVD SIC được thiết kế để chống lại sự uốn cong và biến dạng trong thời gian dài. Độ bền của chúng đảm bảo rằng chúng vẫn đáng tin cậy trong nhiều chu kỳ thử nghiệm, giảm nhu cầu thay thế thường xuyên.

● Bề mặt không có hạt: SIC giả có một bề mặt dễ làm sạch nhằm giảm thiểu các vấn đề hạt, điều này rất quan trọng để duy trì môi trường không bị ô nhiễm. Tính năng này hỗ trợ kết quả chất lượng cao và giảm nguy cơ khuyết tật.

● Độ ổn định hóa học: Tính ổn định hóa học của wafer giả SIC cho phép nó chịu được nhiều loại chất ăn mòn mà không bị suy thoái. Tính năng này là rất quan trọng để duy trì tính toàn vẹn của wafer trong quá trình tiếp xúc hóa học.

Các cách sử dụng cụ thể của các bánh nộm CVD sic được phủ

● Thử nghiệm và thử nghiệm đa năng: Pha giả được phủ SIC là rất cần thiết ở tất cả các giai đoạn sản xuất chất bán dẫn, cung cấp một phương tiện thử nghiệm và thử nghiệm an toàn và đáng tin cậy. Chúng rất cần thiết khi bắt đầu quá trình sản xuất, đảm bảo rằng tất cả các tham số là tối ưu trước khi sử dụng các tấm wafer sản xuất có giá trị.

● Bảo vệ trong quá trình khuếch tán: Trong quá trình khuếch tán, các tấm giả đóng vai trò quan trọng bằng cách che chắn các tấm silicon tiêu chuẩn. Chức năng bảo vệ này ngăn ngừa thiệt hại và ô nhiễm, do đó duy trì tính toàn vẹn và chất lượng của wafer ban đầu.

● Độ chính xác đo lường: Những tấm wafer này được sử dụng cẩn thận để đo độ dày màng, khả năng chống áp suất và chỉ số phản xạ. Chúng cũng giúp phát hiện sự hiện diện của pinball và đánh giá kích thước mẫu trong in thạch bản, đóng góp đáng kể vào độ chính xác của quá trình và giảm khiếm khuyết.

Trên thực tế, chất bán dẫn Vetek hỗ trợ các dịch vụ sản phẩm tùy chỉnh và có thể cung cấp tuần tự hóa do người dùng xác định trên mỗi wafer Lớp phủ CVD SIC theo nhu cầu của khách hàng, cho phép kích thước và độ dày tùy chỉnh. Khắc laser tùy chỉnh tiếp tục loại bỏ nguy cơ ô nhiễm chéo, đảm bảo mức độ tinh khiết và độ tin cậy cao.

Dữ liệu SEM của phim lớp phủ CVD SIC: