Thuyền than chì cho PECVD

Ứng dụng: Thuyền than chì Veteksemicon dành cho PECVD là thành phần cốt lõi trong quá trình lắng đọng hơi hóa chất được tăng cường bằng plasma. Nó được thiết kế đặc biệt để lắng đọng silicon nitride, silicon oxit chất lượng cao và các màng mỏng khác trên tấm silicon, chất bán dẫn hỗn hợp và chất nền của bảng hiển thị. Hiệu suất của nó quyết định trực tiếp đến tính đồng nhất của màng, độ ổn định của quy trình và chi phí sản xuất.

Dịch vụ có thể được cung cấp: phân tích kịch bản ứng dụng của khách hàng, vật liệu phù hợp, giải quyết vấn đề kỹ thuật.

Hồ sơ công ty：Veteksemicon có 2 phòng thí nghiệm, đội ngũ chuyên gia có 20 năm kinh nghiệm về vật liệu, có năng lực R&D và sản xuất, thử nghiệm và xác minh.

Thông tin chung về sản phẩm

Điều kiện kinh doanh sản phẩm

Các lĩnh vực ứng dụng chính

Thuyền than chì Veteksemian mang lại lợi thế cốt lõi PECVD

1. Chất nền có độ tinh khiết cao, kiểm soát ô nhiễm từ nguồn

Chúng tôi nhấn mạnh vào việc sử dụng than chì có độ tinh khiết cao được ép đẳng tĩnh với độ tinh khiết ổn định trên 99,995% làm vật liệu cơ bản để đảm bảo rằng nó sẽ không kết tủa tạp chất kim loại ngay cả trong môi trường hoạt động liên tục ở 1600°C. Yêu cầu vật liệu nghiêm ngặt này có thể trực tiếp tránh được sự suy giảm hiệu suất của tấm bán dẫn do nhiễm bẩn chất mang, mang lại sự đảm bảo cơ bản nhất cho việc lắng đọng màng silicon nitride hoặc silicon oxit chất lượng cao.

2. Trường nhiệt chính xác và thiết kế cấu trúc để đảm bảo tính đồng nhất của quy trình

Thông qua dữ liệu đo quy trình và mô phỏng chất lỏng mở rộng, chúng tôi đã tối ưu hóa góc rãnh của thuyền, độ sâu rãnh dẫn hướng và đường dẫn dòng khí. Việc xem xét cấu trúc tỉ mỉ này cho phép phân phối đồng đều khí phản ứng giữa các tấm bán dẫn. Các phép đo thực tế cho thấy ở mức đầy tải, độ lệch đồng đều về độ dày màng giữa các tấm wafer trong cùng một mẻ có thể được kiểm soát ổn định trong phạm vi ±1,5%, cải thiện đáng kể năng suất sản phẩm.

3. Các giải pháp phủ tùy chỉnh để giải quyết vấn đề ăn mòn trong quy trình cụ thể

Để đáp ứng các môi trường khí xử lý khác nhau của các khách hàng khác nhau, chúng tôi cung cấp hai tùy chọn lớp phủ hoàn thiện: cacbon nhiệt phân và cacbua silic. Nếu bạn chủ yếu lắng đọng silicon nitride và sử dụng phương pháp làm sạch bằng hydro, thì lớp phủ carbon nhiệt phân dày đặc có thể mang lại khả năng chống xói mòn plasma hydro tuyệt vời. Nếu quy trình của bạn liên quan đến khí làm sạch có chứa flo thì lớp phủ cacbua silic có độ cứng cao là lựa chọn tốt hơn. Nó có thể kéo dài tuổi thọ của thuyền than chì trong môi trường có tính ăn mòn cao gấp hơn ba lần so với các sản phẩm không tráng phủ thông thường.

4. Độ ổn định sốc nhiệt tuyệt vời, thích ứng với chu kỳ nhiệt độ thường xuyên

Nhờ công thức than chì độc đáo và thiết kế sườn gia cố bên trong, thuyền than chì của chúng tôi có thể chịu được các cú sốc làm mát và làm nóng nhanh lặp đi lặp lại của quy trình PECVD. Trong các thử nghiệm nghiêm ngặt trong phòng thí nghiệm, sau 500 chu kỳ nhiệt nhanh từ nhiệt độ phòng đến 800°C, tỷ lệ duy trì độ bền uốn của thuyền vẫn vượt quá 90%, tránh nứt vỡ do ứng suất nhiệt một cách hiệu quả và đảm bảo tính liên tục và an toàn trong sản xuất.

5. Chứng thực xác minh chuỗi sinh thái

Thuyền than chì Veteksemian để xác minh chuỗi sinh thái của PECVD bao gồm nguyên liệu thô cho sản xuất, đã đạt chứng nhận tiêu chuẩn quốc tế và có một số công nghệ được cấp bằng sáng chế để đảm bảo độ tin cậy và tính bền vững trong lĩnh vực bán dẫn và năng lượng mới.

Để biết thông số kỹ thuật chi tiết, sách trắng hoặc sắp xếp thử nghiệm mẫu, vui lòng liên hệ với Nhóm hỗ trợ kỹ thuật của chúng tôi để khám phá cách Veteksemian có thể nâng cao hiệu quả quy trình của bạn.