Vòng khắc thạch anh có độ tinh khiết cao

1.Các tính năng và ưu điểm chính

• Thạch anh nung chảy khử hydroxyl cấp độ bán dẫn có SiO₂ ≥ 99,999% và tạp chất kim loại được kiểm soát chặt chẽ

• Hoạt động ổn định liên tục lên tới 1100°C, với khả năng hoạt động ngắn hạn gần 1200°C

• Khả năng chống chịu mạnh mẽ với các hóa chất ăn mòn gốc flo và clo và tiếp xúc với plasma năng lượng cao

• Độ giãn nở nhiệt thấp và hiệu suất sốc nhiệt tốt trong các chu kỳ nhiệt độ buồng lặp đi lặp lại

• Thoát khí chân không thấp để bảo vệ áp suất đáy buồng và xử lý thành phần khí

• Kiểm soát kích thước ở cấp độ micron với các bề mặt tiếp xúc được đánh bóng để đảm bảo độ khít của buồng nhất quán và xác định ranh giới plasma

• Thiết kế có thể định cấu hình: vòng phẳng, vòng khắc bậc, vòng định vị/giữ lại và cấu hình tùy chỉnh hoàn toàn cho các nền tảng công cụ khắc chính

2.Ứng dụng điển hình

Nhẫn khắc thạch anh có độ tinh khiết cao được sử dụng trong buồng xử lý khắc plasma khô để:

• Các bước khắc plasma của thiết bị logic và bộ nhớ

• Quá trình khắc thiết bị điện SiC và GaN

• Khắc cấu trúc tỷ lệ khung hình cao

• Xử lý plasma chất nền bán dẫn quang học và hỗn hợp

• Khắc plasma bao bì tiên tiến và các bước làm sạch liên quan

• Công cụ khắc sản xuất và phòng thí nghiệm RIE / ICP

3.Các thông số kỹ thuật chính

• Chất liệu: thạch anh nung chảy khử hydroxyl cấp bán dẫn, SiO₂ ≥ 99,999%

• Khả năng tương thích wafer: silicon 2/4/6/8/12 inch, SiC, GaN và sapphire

• Nhiệt độ hoạt động: −20 °C đến 1100 °C liên tục; đỉnh điểm ngắn hạn khoảng 1200 °C

• Các chức năng chính: giam giữ cạnh plasma, dẫn hướng dòng khí, bảo vệ cạnh và cách ly buồng

• Chất lượng gia công: dung sai ở mức micron, bề mặt được đánh bóng, các cạnh được kiểm soát và lớp hoàn thiện sạch sẽ

• Tùy chọn cấu trúc: vòng phẳng, vòng khắc bậc, vòng định vị/giữ và hình học tùy chỉnh

• Tùy chỉnh: đường kính ngoài/trong, độ dày, chiều cao bậc, tính năng định vị, góc vát và chi tiết giao diện trên mỗi bản vẽ

4.Tại sao nên chọn Nhẫn khắc thạch anh có độ tinh khiết cao VeTek?

VeTek Semiconductor cung cấp phần cứng thạch anh quan trọng trong quy trình cho các công cụ khắc nhiệt và khắc axit. Đối với các vòng khắc, trọng tâm là:

• Độ tinh khiết của vật liệu và độ sạch bề mặt phù hợp với môi trường khắc khô tiên tiến

• Độ chính xác về kích thước hỗ trợ kiểm soát ranh giới plasma ổn định và lắp buồng lặp lại

• Thiết kế linh hoạt để thay thế theo phong cách OEM và giao diện buồng tùy chỉnh hoàn toàn

• Một loạt thành phần thạch anh hoàn chỉnh bao gồm các vật mang wafer, ống lò, thuyền và các bộ phận quy trình liên quan

Bằng cách kết hợp độ tinh khiết cao, độ bền plasma và khả năng kiểm soát hình học chặt chẽ, Vòng khắc thạch anh có độ tinh khiết cao VeTek giúp cải thiện tính đồng nhất của quá trình khắc trên tấm wafer, giảm các khuyết tật liên quan đến cạnh và hỗ trợ chu kỳ sản xuất lâu hơn, ổn định hơn trong các công cụ khắc plasma khô.