Các sản phẩm

Các sản phẩm

View as  
 
Các thành phần của lò phản ứng hành tinh Aixtron G10 Solid SiC

Các thành phần của lò phản ứng hành tinh Aixtron G10 Solid SiC

Các phụ kiện SiC rắn của VeTek Semiconductor dành cho nền tảng Aixtron G10-SiC là các thành phần cacbua silic đậm đặc, có độ tinh khiết cao được thiết kế cho môi trường nhiệt và hóa học đòi hỏi khắt khe của sự phát triển epiticular SiC. Những bộ phận này mang lại độ ổn định vượt trội ở nhiệt độ cao, khả năng kháng hóa chất và tạo hạt cực thấp, hỗ trợ cấu hình lò phản ứng hành tinh 9×150 mm / 6×200 mm công suất cao được sử dụng trong sản xuất thiết bị điện.
Dịch vụ làm sạch bộ phận than chì phủ CVD SiC

Dịch vụ làm sạch bộ phận than chì phủ CVD SiC

Dịch vụ vệ sinh chuyên nghiệp VETEK cho các bộ phận than chì phủ CVD SiC là dịch vụ kỹ thuật chuyên biệt được thiết kế cho các bộ phận nhạy cảm của thiết bị Aixtron / Veeco MOCVD và các thành phần than chì được sử dụng trong quy trình epiticular GaN / AlN / AlGaN. Quy trình làm sạch độc quyền của chúng tôi loại bỏ triệt để hiệu ứng ghi nhớ bề mặt, khôi phục dòng khí ổn định trong lò phản ứng và bảo vệ nghiêm ngặt lớp phủ CVD SiC 100 µm mà không bị mất độ dày tuyệt đối và không có cặn kim loại.
Chất nhạy cảm than chì phủ CVD SiC cho chất mang wafer

Chất nhạy cảm than chì phủ CVD SiC cho chất mang wafer

Chất nhạy cảm bằng than chì được phủ VETEK CVD SiC cho chất mang wafer là thành phần hỗ trợ wafer hiệu suất cao được thiết kế cho các quy trình epit Wax bán dẫn. Sản phẩm sử dụng than chì có độ tinh khiết cao làm chất nền và được phủ một lớp cacbua silic CVD (SiC) đồng nhất, mang lại độ ổn định nhiệt, kháng hóa chất và kiểm soát hạt tuyệt vời. Là một thành phần nhạy cảm với than chì quan trọng, nó hỗ trợ trực tiếp các tấm bán dẫn bên trong buồng phản ứng và giúp duy trì sự phân bố nhiệt độ đồng đều và các điều kiện tăng trưởng epiticular ổn định.
Bột SiC có độ tinh khiết cao để tăng trưởng tinh thể SiC

Bột SiC có độ tinh khiết cao để tăng trưởng tinh thể SiC

Chất bán dẫn VeTek cung cấp Bột cacbua silic (SiC) có độ tinh khiết cao cao cấp được thiết kế đặc biệt để tăng trưởng tinh thể SiC (quy trình PVT) năng suất cao, sản xuất chất nền bán dẫn và gốm chức năng tiên tiến. Được xử lý thông qua công nghệ tinh chế siêu sạch, nguyên liệu thô SiC có độ tinh khiết cao của chúng tôi cung cấp hàm lượng kim loại vết đặc biệt thấp, hiệu suất thăng hoa có thể tái tạo và chất lượng ổn định cao theo từng lô để đáp ứng các yêu cầu sản xuất chất bán dẫn nghiêm ngặt.
Thuyền wafer thạch anh có độ tinh khiết cao cho điện thoại

Thuyền wafer thạch anh có độ tinh khiết cao cho điện thoại

Thuyền wafer thạch anh có độ tinh khiết cao VETEK dành cho thiết bị bán dẫn TEL được sản xuất từ ​​vật liệu thạch anh cấp bán dẫn và được thiết kế để xử lý wafer trong các quy trình nhiệt độ cao như khuếch tán, oxy hóa, ủ và CVD. Với độ ổn định nhiệt tuyệt vời, khả năng kháng hóa chất và đặc tính nhiễm bẩn thấp, nó cung cấp hỗ trợ wafer đáng tin cậy cho các ứng dụng sản xuất chất bán dẫn.
Vòng than chì tráng tantalum cacbua (TaC) xốp

Vòng than chì tráng tantalum cacbua (TaC) xốp

Vòng than chì được phủ xốp TaC VETEK là thành phần trường nhiệt được thiết kế để tăng trưởng đơn tinh thể SiC thông qua quy trình PVT (Vận chuyển hơi vật lý). Nó được sản xuất từ ​​than chì xốp có độ tinh khiết cao và được phủ bằng cacbua tantalum (TaC) bằng công nghệ CVD. Thiết kế hướng tới sự ổn định ở nhiệt độ cao, khả năng phục hồi hóa học và hiệu suất trường nhiệt được kiểm soát. Bằng cách giảm thiểu ô nhiễm và hỗ trợ tính nhất quán của quy trình, thành phần này góp phần mang lại kết quả tăng trưởng tinh thể SiC có thể tái tạo.
X
Chúng tôi sử dụng cookie để cung cấp cho bạn trải nghiệm duyệt web tốt hơn, phân tích lưu lượng truy cập trang web và cá nhân hóa nội dung. Bằng cách sử dụng trang web này, bạn đồng ý với việc chúng tôi sử dụng cookie. Chính sách bảo mật
Từ chốiChấp nhận