Các sản phẩm

Bột cacbua silic (SiC) có độ tinh khiết cao bán dẫn VeTek được phát triển đặc biệt để phát triển tinh thể SiC, vật liệu bán dẫn và các ứng dụng gốm tiên tiến. Thông qua công nghệ tinh chế tiên tiến và kiểm soát chất lượng nghiêm ngặt, bột SiC của chúng tôi cung cấp mức tạp chất cực thấp, phân phối hạt ổn định và tính nhất quán tuyệt vời cho các quy trình sản xuất đòi hỏi khắt khe.

Trong thiết lập tăng trưởng tinh thể SiC PVT, các bộ phận than chì được chạy ở nhiệt độ rất cao trong thời gian dài. Vòng than chì phủ PyC của VeTek được chế tạo cho loại nhiệm vụ đó. Một lớp carbon nhiệt phân được lắng đọng trên than chì có độ tinh khiết cao thông qua CVD. Điều này mang lại cho bộ phận độ ổn định bề mặt tốt hơn và ít hạt rơi ra hơn trong quá trình vận hành. Bạn thường đặt nó trong khu vực trường nhiệt để giúp quản lý dòng hơi và cách nhiệt lan truyền bên trong lò. Lớp phủ cũng làm chậm quá trình thăng hoa của than chì khi mọi thứ vượt quá 2200°C, giúp cho toàn bộ thành phần tồn tại lâu hơn.

Được thiết kế để bao quanh vùng theo dõi wafer, Solid SiC Focus Ring đảm bảo phân phối plasma tuyến tính và cấu hình ăn mòn từ cạnh đến trung tâm chính xác. Các thành phần β-SiC cao cấp này được chế tạo bởi Vetek Semiconductor (Công ty TNHH Công nghệ Vật liệu Mới Wuyi Tianyao) bằng cách sử dụng công nghệ lắng đọng hơi hóa học (CVD) độc quyền. Bằng cách làm bay hơi các nguyên liệu thô thành một ma trận dày đặc, không có chất kết dính, Vetek loại bỏ các khoảng trống vi mô thường gặp ở các vật liệu cũ. So với tấm chắn thạch anh hoặc silicon tiêu chuẩn, các thành phần CVD SiC của chúng tôi có khả năng chống chịu khí halogen ăn mòn tốt hơn nhiều, bảo vệ tấm bán dẫn ở mức logic sâu dưới 7nm và quá trình sản xuất chip bộ nhớ dày đặc. Rất mong nhận được câu hỏi thêm của bạn.

Pin nâng wafer AMAT 0200-03201 này của VeTek bắt đầu bằng than chì có độ tinh khiết cao, sau đó chúng tôi thêm lớp phủ CVD SiC dày đặc lên trên. Nó được chế tạo cho các hệ thống epit Wax 300mm và lò phản ứng EPI Vật liệu Ứng dụng. Tại sao là than chì và SiC? Than chì xử lý nhiệt rất tốt. Lớp SiC tiếp nhận khí ăn mòn và không bị hao mòn nhanh. Thiết kế tường mỏng? Đó là để nâng và định vị tấm bán dẫn sạch hơn, ít hạt hơn và tuổi thọ sản phẩm dài hơn ở nhiệt độ cao. Chúng tôi cũng sản xuất các bộ phận than chì được phủ SiC tương tự cho các hệ thống ASM, Aixtron và LPE. Mong nhận được yêu cầu của bạn.

Vetek Semiconductor sản xuất các chất mang bán dẫn cho hệ thống VEECO MOCVD, được thiết kế dành riêng cho hoạt động epit Wax LED như đèn LED GaN, đèn LED xanh lam và đèn LED UV sâu. Những chất mang này bắt đầu bằng than chì có độ tinh khiết cao và có lớp phủ cacbua silic CVD (SiC) dày đặc. Sự kết hợp đó duy trì tốt ở nhiệt độ cao mà bạn thấy ở MOCVD – độ ổn định nhiệt tốt, khả năng chống ăn mòn và lớp phủ bền lâu.

Halfmoon là thành phần than chì được sử dụng bên trong lò phản ứng LPE SiC, chủ yếu được lắp đặt xung quanh vùng nóng trong buồng. Mặc dù nó không tiếp xúc trực tiếp với wafer nhưng nó vẫn đóng vai trò trong việc ổn định dòng khí và vận hành lò phản ứng trong quá trình tăng trưởng epiticular. Để xử lý các điều kiện quá trình phản ứng và nhiệt độ cao, thành phần này thường được bảo vệ bằng lớp phủ CVD SiC, trong khi lớp phủ TaC cũng có sẵn cho một số ứng dụng. VETEK cũng cung cấp vật liệu cách nhiệt bằng than chì và các bộ phận được phủ than chì khác cho hệ thống epitaxy SiC.