Các sản phẩm

Chuck gốm sic xốp bằng veteksemonon là một nền tảng chân không được thiết kế chính xác được thiết kế để xử lý wafer an toàn và không có hạt trong các quá trình bán dẫn tiên tiến như khắc, cấy ion, CMP và kiểm tra. Được sản xuất từ ​​cacbua silicon xốp có độ tinh khiết cao, nó cung cấp độ dẫn nhiệt vượt trội, sức cản hóa học và sức mạnh cơ học. Với kích thước và kích thước lỗ chân lông có thể tùy chỉnh, Veteksemonon cung cấp các giải pháp phù hợp để đáp ứng nhu cầu nghiêm ngặt của môi trường xử lý wafer phòng sạch.

Thuyền wafer thạch anh của chúng tôi là giải pháp vận chuyển wafer tinh khiết cao phù hợp với các quy trình sản xuất bán dẫn, đèn LED, pin mặt trời và pin. Được thiết kế để chịu đựng nhiệt độ cao và môi trường tích cực về mặt hóa học, Thuyền thạch anh này có sự giãn nở nhiệt thấp, cách điện tuyệt vời và độ ổn định chiều dài hạn. Lý tưởng cho các quy trình khuếch tán, oxy hóa và LPCVD, nó hỗ trợ căn chỉnh wafer chính xác và có sẵn trong các kích cỡ khác nhau để đáp ứng các yêu cầu thiết bị khác nhau.

BÀI VIẾT CANTILEVER VETEKSOMONON là cánh tay hỗ trợ cacbua silicon có độ tinh khiết cao được thiết kế để xử lý wafer trong lò khuếch tán ngang và lò phản ứng epiticular. Với độ dẫn nhiệt đặc biệt, khả năng chống ăn mòn và cường độ cơ học, các mái chèo này đảm bảo sự ổn định và sạch sẽ trong môi trường bán dẫn đòi hỏi. Có sẵn trong các kích thước tùy chỉnh và được tối ưu hóa cho cuộc sống dịch vụ lâu dài.

Khối Veteksemonon sườn SIC được thiết kế để mài hiệu quả cao và mỏng silicon và sapphire. Với độ dẫn nhiệt tuyệt vời (≥120 W/m · K), điện trở sốc nhiệt cao và điện trở hao mòn vượt trội (MOHS 9), các khối của chúng tôi cải thiện độ ổn định của quá trình và giảm tần số thay đổi công cụ. Có sẵn với kích thước từ 120mm đến 480mm, với các tùy chọn tùy chỉnh và giao hàng nhanh để đáp ứng nhu cầu sản xuất đa dạng.

Giá đỡ wafer lớp phủ silicon bằng veteksemonon được thiết kế cho độ chính xác và hiệu suất trong các quá trình bán dẫn tiên tiến như MOCVD, LPCVD và ủ nhiệt độ cao. Với lớp phủ SIC CVD đồng đều, giá đỡ wafer này đảm bảo độ dẫn nhiệt đặc biệt, trơ hóa hóa học và cường độ cơ học-cần thiết cho quá trình xử lý wafer không bị nhiễm bẩn, không có năng suất cao.

Vetksemia các vòng cạnh sic tinh khiết cao, được thiết kế đặc biệt cho thiết bị khắc bán dẫn, tính năng chống ăn mòn nổi bật và độ ổn định nhiệt, tăng cường đáng kể năng suất wafer