Quy trình lắng đọng hơi hóa học Vòng cạnh sic

CVD Process SOLID SIC EDGE RING:

● Vật liệu: Vòng lấy nét được chế tạo từ sic rắn, độ tinh khiết cao và vật liệu gốm hiệu suất cao. Nó được chuẩn bị bằng cách lắng đọng hơi hóa học. Vật liệu SIC rắn cung cấp độ bền đặc biệt, điện trở nhiệt độ cao và tính chất cơ học tuyệt vời.

●  Thuận lợi: Vòng CVD SIC cung cấp độ ổn định nhiệt vượt trội, duy trì tính toàn vẹn cấu trúc của nó ngay cả trong điều kiện nhiệt độ cao gặp phải trong các quá trình khắc khô. Độ cứng cao của nó đảm bảo khả năng chống căng thẳng và hao mòn cơ học, dẫn đến tuổi thọ phục vụ kéo dài. Hơn nữa, SIC rắn thể hiện sự trơ hóa học, bảo vệ nó khỏi ăn mòn và duy trì hiệu suất của nó theo thời gian.

Lớp phủ CVD SIC:

●  Vật liệu: Lớp phủ SIC CVD là sự lắng đọng màng mỏng của SIC bằng cách sử dụng các kỹ thuật lắng đọng hơi hóa học (CVD). Lớp phủ được áp dụng trên vật liệu chất nền, chẳng hạn như than chì hoặc silicon, để cung cấp các tính chất sic cho bề mặt.

●  So sánh: Trong khi các lớp phủ SIC CVD cung cấp một số lợi thế, chẳng hạn như lắng đọng phù hợp trên các hình dạng phức tạp và tính chất phim có thể điều chỉnh, chúng có thể không phù hợp với sự mạnh mẽ và hiệu suất của sic rắn. Độ dày lớp phủ, cấu trúc tinh thể và độ nhám bề mặt có thể thay đổi dựa trên các tham số quá trình CVD, có khả năng ảnh hưởng đến độ bền và hiệu suất tổng thể của lớp phủ.

Tóm lại, vòng tập trung SIC bán dẫn Vetek là một lựa chọn đặc biệt cho các ứng dụng khắc khô. Vật liệu SIC rắn của nó đảm bảo khả năng kháng nhiệt độ cao, độ cứng tuyệt vời và trơ hóa hóa học, làm cho nó trở thành một giải pháp đáng tin cậy và lâu dài. Trong khi lớp phủ CVD SIC cung cấp sự linh hoạt trong sự lắng đọng, CVD SIC Ring vượt trội trong việc cung cấp độ bền và hiệu suất chưa từng có cần thiết cho các quy trình khắc khô.

Tính chất vật lý của sic rắn