Chất mang RTP RTA phủ than chì CVD Silicon Carbide (SiC)

Tính năng sản phẩm

· Thiết bị cốt lõi:Được thiết kế cho các hệ thống Ủ nhiệt nhanh (RTA) và Xử lý nhiệt nhanh (RTP).

· Sơ cấpôi Aứng dụng: Tối ưu hóa cho quá trình ủ wafer bán dẫn.

· Ồeđánh giá Tenhiệt độ:Hoạt động ổn định từ 200°C đến 700°C.

· ExcElent cótính đồng nhất: Đảm bảo phân phối nhiệt đều để xử lý wafer nhất quán.

· hạt thấpGthế hệ: Lớp phủ SiC CVD dày đặc giúp giảm thiểu ô nhiễm và cải thiện năng suất sản xuất.

· Kháng hóa chất vượt trội:Chống lại quá trình oxy hóa và ăn mòn khí trong quá trình xử lý nhiệt.

· Nổi bậtg Nhiệtal Chống sốc: Duy trì tính toàn vẹn của cấu trúc thông qua các chu kỳ làm nóng và làm mát nhanh chóng lặp đi lặp lại.

· Tuổi thọ dài:Lớp phủ SiC chống mài mòn giúp kéo dài đáng kể tuổi thọ của linh kiện và giảm chi phí bảo trì.

· Phong tụcChế tạo:Có nhiều kích cỡ và cấu hình khác nhau để phù hợp với các thiết bị RTP/RTA khác nhau.

Thông số kỹ thuật

Ứng dụng

·Ủ nhiệt nhanh (RTA)

· Xử lý nhiệt nhanh (RTP)

· Ủ wafer silicon

· Kích hoạt Dopant

· quá trình oxy hóa

· Khuếch tán

·Sản xuất chất bán dẫn phức hợp

·Chế tạo MEMS

·Xử lý chất bán dẫn điện

Câu hỏi thường gặp

1. Nhà cung cấp dịch vụ RTP/RTA là gì?

RTP/RTA Carrier là thành phần hỗ trợ wafer được sử dụng bên trong các hệ thống xử lý nhiệt nhanh và ủ nhiệt nhanh. Nó giữ các tấm bán dẫn một cách an toàn đồng thời cung cấp khả năng truyền nhiệt đồng đều trong suốt chu trình nhiệt.

2. Tại sao lớp phủ CVD SiC được ưa chuộng?

So với than chì trần, lớp phủ CVD SiC có khả năng chống oxy hóa vượt trội, tạo ra hạt thấp hơn, ổn định hóa học tốt hơn và tuổi thọ dài hơn đáng kể.

3. VETEK có thể cung cấp nhà cung cấp dịch vụ RTP/RTA tùy chỉnh không?

Đúng. VETEK cung cấp các nhà cung cấp dịch vụ RTP/RTA tùy chỉnh dựa trên bản vẽ của khách hàng.