Bước đột phá công nghệ cacbua tantalum, ô nhiễm epiticular sic giảm 75%?

Gần đây, Viện nghiên cứu Đức Fraunhofer IISB đã tạo ra một bước đột phá trong nghiên cứu và phát triểnCông nghệ lớp phủ cacbua tantalum, và phát triển một giải pháp phủ phun linh hoạt và thân thiện với môi trường hơn so với giải pháp lắng đọng CVD, và đã được thương mại hóa.

Và chất bán dẫn vetek trong nước cũng đã tạo ra những bước đột phá trong lĩnh vực này, vui lòng xem bên dưới để biết chi tiết.

Fraunhofer IISB:

Phát triển công nghệ lớp phủ TAC mới

Vào ngày 5 tháng 3, theo các phương tiện truyền thông "Hợp chất bán dẫn", Fraunhofer IISB đã phát triển mộtCông nghệ lớp phủ Tantalum cacbua (TAC)-Taccotta. Giấy phép công nghệ đã được chuyển đến Nippon Kornmeyer Carbon Group (NKCG) và NKCG đã bắt đầu cung cấp các bộ phận than chì được phủ TAC cho khách hàng của họ.

Phương pháp sản xuất lớp phủ TAC truyền thống trong ngành là lắng đọng hơi hóa học (CVD), phải đối mặt với những nhược điểm như chi phí sản xuất cao và thời gian giao hàng dài. Ngoài ra, phương pháp CVD cũng dễ bị nứt TAC trong quá trình làm nóng và làm mát lặp đi lặp lại. Những vết nứt này phơi bày than chì cơ bản, làm suy giảm nghiêm trọng theo thời gian và cần phải được thay thế.

Sự đổi mới của TACCOTTA là nó sử dụng phương pháp lớp phủ phun dựa trên nước, sau đó xử lý nhiệt độ để tạo thành lớp phủ TAC với độ ổn định cơ học cao và độ dày điều chỉnh trênChất nền than chì. Độ dày của lớp phủ có thể được điều chỉnh từ 20 micron đến 200 micron phù hợp với các yêu cầu ứng dụng khác nhau.

Công nghệ quy trình TAC được phát triển bởi Fraunhofer IISB có thể điều chỉnh các thuộc tính lớp phủ cần thiết, chẳng hạn như độ dày, như được hiển thị bên dưới trong phạm vi từ 35μm đến 110 μm.

Cụ thể, lớp phủ phun Taccotta cũng có các tính năng và lợi thế chính sau:

● thân thiện với môi trường hơn: với lớp phủ phun nước, phương pháp này thân thiện với môi trường và dễ công nghiệp hóa hơn;

● Tính linh hoạt: Công nghệ Taccotta có thể thích ứng với các thành phần có kích thước và hình học khác nhau, cho phép phủ một phần và tân trang thành phần, điều này là không thể trong CVD.

● Giảm ô nhiễm tantalum: Các thành phần than chì với lớp phủ Taccotta được sử dụng trong sản xuất epiticular SIC và ô nhiễm tantalum giảm 75% so với hiện tại so với hiện tạiLớp phủ CVD.

● Khả năng chống hao mòn: Các thử nghiệm cào cho thấy việc tăng độ dày lớp phủ có thể cải thiện đáng kể khả năng chống mài mòn.

Kiểm tra cào

Được biết, công nghệ này đã được NKCG, một liên doanh tập trung vào việc cung cấp vật liệu than chì hiệu suất cao và các sản phẩm liên quan. NKCG cũng sẽ tham gia vào việc phát triển công nghệ Taccotta trong một thời gian dài trong tương lai. Công ty đã bắt đầu cung cấp các thành phần than chì dựa trên công nghệ Taccotta cho khách hàng của họ.

Chất bán dẫn vetek thúc đẩy bản địa hóa TAC

Đầu năm 2023, chất bán dẫn Vetek đã ra mắt một thế hệ mớiTăng trưởng tinh thể sicvật liệu trường nhiệt-cacbua tantalum xốp.

Theo báo cáo, chất bán dẫn Vetek đã phát động một bước đột phá trong việc phát triểncacbua tantalum xốpvới độ xốp lớn thông qua nghiên cứu và phát triển công nghệ độc lập. Độ xốp của nó có thể đạt tới 75%, đạt được sự lãnh đạo quốc tế.